◎ 林修民
這幾天日中之間的紛爭，從一開始中國不滿日本高市首相在國會關於台灣有事的發言，祭出一大堆對日本的報復措施，包含禁止觀光客赴日，禁止日本的水產進口，也停止了進口日本和牛的談判，甚至還有兩岸中國人呼籲中國政府禁止稀土出口至日本。
日相高市早苗對「台灣有事」表態後，中國禁止日本水產品進口。圖為日本海鮮。（路透檔案照）
但事實上，中國進口日本產品非常多，其中半導體光阻液就是非常大量的產品，小弟之前在臉書也有呼籲中國政府，有沒有考慮禁止進口日本半導體光阻液？
經過了幾天，網上已看到有些小粉紅，自信滿滿的表示中國的國產光阻液已經成功，所以不怕日本政府的卡脖子。
什麼是光阻液？
光阻液或光阻（Photo Resist, PR）是半導體生產晶圓重要微影製程中，需用到的一種精細敏感的高科技感光化學混合材料。（資料照）
近幾年台灣很多人都知道EUV極紫外光曝光機的故事（中國翻譯為光刻機），甚至紅到讓荷蘭廠商艾斯摩爾聲名大噪。
但事實上，你要完成半導體關鍵部分的微影製程，不是靠曝光機就可以獨自完成，必須要搭配相對應的光阻液才行。
因為光阻液必須接收到相對波長的光線照射產生反應，進而阻擋後續半導體製程如離子佈植等。所以半導體廠商每次升級更先進的曝光機，就必須更新他們相對應的光阻液。
事實上根據統計，目前中國廠商只有在I-line的光阻液具有量產的能力， KrF曝光機（也就是第一代DUV深紫外光）以後的光阻液，中國廠商幾乎無量產的能力。
中國在半導體製造關鍵環節的曝光機技術目前仍停留在65奈米程度，至少落後荷蘭艾斯摩爾（ASML，見圖）20年的時間。（路透檔案照）
所以中國目前自製I-line光阻液製程極限在哪裡？
一般而言， I-line曝光機極限是.35 um, 如果再用力勉強的撐一下可以極限到.25 um. 而.25 um如果以目前我們習慣用的奈米作為單位的話，那大概就是250奈米。
.25um是多久以前的產品大家知道嗎？
小弟還在唸書的時，曾經買過Intel pentium II， 當時就是採用.25um所製造的，那個已經是28年前的事了。
中芯國際正在測試首台中共國產先進晶片製造設備深紫外線（DUV）曝光機。示意圖。（取自網路）
而最新新聞是中國湖北鼎龍公告， 他們ArF - I （浸潤式）光阻液已經通過客戶的驗證。 基本上這個新聞就跟上海宇量昇科技推出可以達到28奈米浸潤式曝光機一樣。
雖然小弟在201X年時，就一直聽說中國28奈米自製曝光機在2020年時就會問世，結果到了今年，還是一直停留在新聞階段。
不過，在光阻液的部分，既然中國已經可以自製，那為何還要讓日本人繼續賺大錢呢？
（作者為科技專欄作家）
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